[르포] '삼전의 미래' 본 가동 나선 삼성 평택캠퍼스 3라인을 가다
[르포] '삼전의 미래' 본 가동 나선 삼성 평택캠퍼스 3라인을 가다
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올초 美 대통령도 방문...4라인 착공 위한 준비작업 착수
향후 시장 수요에 따라 추가로 3개 생산 시설도 가능 
삼성전자 평택캠퍼스 전경. (사진=삼성전자)
삼성전자 평택캠퍼스 전경. (사진=삼성전자)

[서울파이낸스 이서영 기자] 삼성전자는 세계 최대 규모의 반도체 생산시설인 평택캠퍼스 3라인을 본격 가동하기 시작했다. 반도체 1위 자리를 줄곧 지켜온 삼성전자가 평택 3라인에서 낸드플래시 양산을 통해 시장 지배력을 더욱 강화할 것인지 관심이 집중되고 있다.

7일 삼성전자는 경기 평택시 고덕면에 자리잡은 평택캠퍼스 3라인을 기자들에게 공개했다. 2020년 말부터 기초공사에 들어간 평택 3라인은 지난 7월부터 낸드플래시 양산 시설을 구축하고 웨이퍼 투입했다. 

용인 기흥 캠퍼스가 삼성 반도체 사업의 태동지라면, 평택 캠퍼스는 삼성전자의 미래라 불린다. 축구장 400개를 모아놓은 약 288만㎡(87만평)의 평택 캠퍼스에서 특히 생산 라인의 경우 길이 518m, 폭 201m, 높이 83m로 단일 반도체 공장으로는 세계에서 가장 크다. 

평택캠퍼스 3라인 내부는 수율을 방해할 먼지 한 톨에도 민감했다. 예를 들어 병원 무균실이 약 100개 정도의 먼지가 있다면, 3라인의 클린룸(먼지·세균이 없는 생산시설)내에는 1개 이하가 있다는 것이 삼성전자의 설명이다.  

삼성전자 평택캠퍼스 3라인 내 리사이클 소재로 만든 방진복을 입은 직원이 걸어가는 모습. (사진=삼성전자)
삼성전자 평택캠퍼스 3라인 내 폐페트병을 재활용한 소재로 만든 방진복을 입은 직원이 걸어가는 모습. (사진=삼성전자)

또한 빠른 작업을 위해 OHT(Overhead Hoist Transfer) 로봇을 통해 웨이퍼를 운반한다. 과거의 사람이 운반하기도 했으나, 로봇 발달로 공정 과정을 단순화 했다. 로봇은 장애물 감지 센서 있어 충돌 방지하고 장비의 국산화까지 이뤘다. 이후 반도체 8대 공정과 후공정을 거쳐 최소 90일에 지나면 반도체가 만들어진다. 

올해 초에는 윤석열 대통령과 조 바이든 미국 대통령이 직접 평택 캠퍼스에 방문해 반도체 웨이퍼에 서명하는 행사를 진행하기도 했다. EUV 공정 기반의 D램과 5나노 이하 파운드리 공정을 진행하고 향후 시장의 수요에 따라 현재 가동중인 3개 라인 외에 추가로 3개의 대형 반도체 생산시설이 들어올 가능성도 있다.  

삼성전자는 평택 3라인 가동뿐만 아니라 4라인 착공을 위한 준비작업도 착수했다. 평택 4라인의 구체적인 착공시기와 적용 제품이 정해지지 않았지만, 삼성전자는 향후 반도체 시장의 수요 변화에 발빠르게 대응할 수 있도록 기초공사를 진행하고 있다.

삼성전자는 또 국내 반도체 사업장 최초로 폐페트병을 재활용해 만들어진 리사이클 방진복을 평택캠퍼스에 도입하면서 환경 측면에서도 신경쓰고 있다.

경계현 삼성전자 대표이사는 투자와 관련해 "그동안 삼성의 투자 패턴을 보면 호황기에 투자를 많이 하고, 불황기에는 투자를 적게하는 경향이 있다"며 "다만 이는 경기 사이클이 빨라지면서, 불황기에 투자 적게 한 게 호황기에는 안 좋은 결과를 갖고올 수 있다는 판단으로 인해 기본적 투자 방향은 시황과 무관하게 일관적으로 하려고 하고 있다"고 말했다. 

이어 "평택캠퍼스는 업계 최선단의 14나노 D램과 초고용량 V낸드, 5나노 이하의 첨단 시스템반도체가 모두 생산되는 첨단 반도체 복합 생산단지로 성장하고 있다"며 "반도체 생산은 물론 친환경 사업장 구축, 지역사회, 협력사 등과 다양한 상생활동을 통해 우리나라 반도체 생태계의 중심지로 거듭날 것"이라고 덧붙였다.

윤석열 대통령과 조 바이든 미국 대통령이 3나노 시제품 웨이퍼에 사인했다. (사진=삼성전자)
윤석열 대통령과 조 바이든 미국 대통령이 3나노 시제품 웨이퍼에 사인했다. (사진=삼성전자)

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