[서울파이낸스 여용준 기자] SK하이닉스의 반도체 핵심 기술을 중국에 유출하고 삼성전자 자회사 세메스의 장비 도면을 빼돌린 협력사 부사장에게 징역 1년의 실형이 선고됐다.
서울중앙지법 형사합의25-3부(지귀연 박정길 박정제 부장판사)는 13일 산업기술보호법 위반·부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 기소된 SK하이닉스 협력업체 부사장 A(59)씨에게 징역 1년을 선고했다.
또 법인에게는 벌금 4억원을 선고했으며 함께 기소된 직원 7명에게는 징역 8개월에서 1년6개월의 집행유예, 벌금형 등이 선고됐다.
A씨 등은 SK하이닉스와 협업을 통해 알게 된 HKMG 반도체 제조기술과 세정 레시피 등 반도체 관련 핵심기술과 첨단기술 등 영업비밀을 2018년께부터 중국 반도체 경쟁업체로 유출한 혐의를 받았다.
HKMG는 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 차세대 공정으로, D램 반도체의 속도를 빠르게 하면서도 소모 전력을 줄일 수 있는 신기술이다.
이 밖에 이들은 삼성전자와 자회사인 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 초임계 세정장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 있다. 이들이 활용한 첨단 기술은 초임계 이산화탄소로 반도체 기판을 세정해 손상을 최소화하는 것으로 산업통상자원부가 지정한 국가핵심기술이다.
재판부는 SK하이닉스와 공동개발한 세정장비 사양을 다른 업체에 알려준 혐의는 공동개발 계약서에 대외발표만 금지하도록 하는 조항이 있는 만큼 무죄로 판단했다.
재판부는 "공동개발 결과물이 아닌 레시피를 평소 몰래 수집하거나 양말에 USB를 넣어 취득해 국외로 유출한 혐의를 모두 유죄로 판단했다"며 "세메스와 관련해서는 인적네트워크를 이용해 부정하게 취득했다"고 판시했다.
또 "레시피와 국가핵심기술인 HKMG 관련 공정 기술을 유출했으며 세메스 정보를 몰래 취득해 초임계 세정장비를 개발해 공정한 경쟁질서를 위협하는 등 죄질이 좋지 않다"며 "일반 산업 스파이가 해외로 유출하는 것과는 궤를 달리하는 점도 감안했다"고 양형 이유를 밝혔다.
