[서울파이낸스 여용준 기자] 미국 상무부는 20일(현지시간) 반도체법에 따라 삼성전자에 47억4500만 달러(약 6조9000억원)의 보조금을 지급한다고 최종 발표했다. 이는 양측이 지난 4월 예비거래각서(PMT)에 서명할 때 발표한 64억 달러(약 9조2000억원)에 비해 약 26% 감액된 것이다.
삼성전자의 투자금액 대비 보조금 비율은 약 13%로 TSMC, 인텔, 마이크론 등에 비해 여전히 높다. 이는 삼성의 투자규모 축소가 보조금 감액에 영향을 준 것으로 보인다.
상무부는 보조금이 텍사스주 테일러에 새롭게 들어설 첨단 시스템 반도체 제조공장 두 곳과 연구·개발 시설, 텍사스주 오스틴의 기존 생산 설비 확장 등에 쓰일 삼성의 370억 달러(약 53조6000억원) 넘는 대미 투자를 지원한다고 밝혔는데, 이 액수는 4월 PMT 서명 단계에 비해 약 16% 줄어든 것이다.
지난 4월 PMT 서명 당시 삼성전자는 현재 미국 텍사스주 테일러시에 170억 달러(약 23조6000억원)를 투자해 건설 중인 반도체 공장의 규모와 투자 대상을 확대해 오는 2030년까지 총 440억 달러(약 63조6000억원)를 투자할 계획이었다.
미 상무부 대변인은 로이터에 삼성에 대한 보조금 감액 배경에 대해 "시장 환경과 해당 기업의 투자 범위에 맞춰 변경했다"며 "보조금은 텍사스 중부에 있는 반도체 생산 시설을 미국 내 최첨단 칩 개발 및 생산을 위한 종합적 생태계로 전환하는 데 사용될 것"이라고 설명했다. 삼성전자 측은 블룸버그 통신을 통해 "중장기 투자 계획은 전반적인 투자 효율성을 최적화하기 위해 조정을 거쳐왔다"고 밝혔다.
